第353章 历史性的突破，光刻镜面原子级精密度杀入世界一流！ (第2/2页)
致不可避免偶尔出现光路闭环发散情况发生。
“行吧辛苦了，等会儿人到齐了，我们再测试一下。”
“好的。”
说罢，林决来到机器旁检查一番。
不多时。
陈望山，蒋墨等核心专家组成员到齐。
又一轮测试开始了。
林决站在指挥处，“各个工位，报一下状态。”
“光源系统就位。”
“真空系统就位。”
“光路系统准备好了......”
“132路驱动自检通过。”
“数据采集开始，开吧。”
“......”
这一个月以来，众人已经跑过许多流程。
如今已有了相当默契。
所以只用了不到十五分钟，整机流程便完成了“开机”！
“滴！”
随着林决按下总开关。
核心主机，光源系统，大型离子束抛光机，超精密光学加工机床等大型设备，开始发出工业轰鸣。
与此同时。
林决将本次测试核心部件，也就是132路电压驱动打开。
在屏幕上，代表着电压值的电子光柱亮了起来。
【函子上电中......】
【输出正常】
【促动阵列响应正常】
【镜面形变进行预设范围】
【闭环开始.....】
随着这个提示出现。
林决看到左上角偏振对比度开始急速拉高。
【0.16nm RMS.....】
【0.18nm RMS.....】
【0.25nm RMS.....】
这个结果，已经比之前测试的还要糟糕。
但林决和在场众人，却未有任何慌张之感。
因为下一刻......
那代表着偏振对比度数值。
又开始在零偏映射算法控制下，开始如同过山车一般骤降！！！
【0.10nm RMS......】
【0.11nm RMS......】
【0.10nm RMS......】
【0.13nm RMS......】
机器的轰鸣依旧在继续，并且在高电压下，一些设备，甚至是在超频状态下完成负载！
它们的服役生涯会缩短，损耗会加大，甚至在某一刻，忽然就冒出黑烟，然后报废......
大力虽能出奇迹。
但也是把双刃剑，在长时间强电压超频的状态下工作，会对设备本身就造成损耗。
其直接......
可能会是几亿，甚至十几亿以上......
但此刻。
那些好像都已经不太重要了！
因为......
整个实验室都看到了曾经想都不敢想的一组组数据！！
这代表着，他们在镜面工艺情况落后于国外的情况下，依旧靠着算法镀膜，靠着控制电压驱动的方法......
将反射原子级平整度精度，达到了国际标准的0.15nm RMS以内！！
甚至从结果上来看......
还能偶尔跑到0.10超精密优秀指标中去！
此时此刻。
造出5~7nm电路的镜面镀膜问题，光面平整度问题......
第一次在这片大地上被解决了......